SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Fugtgivende Maske

1 ark eller æske (5 ark) Oplev dyb hydrering, opstramning og fugtighedsbevarende fordele med denne sheetmaske. Beriget med 8 typer hyaluronsyre, centella og ceramid, skaber den en beskyttende fugtfilm på huden, forhindrer fugttab og styrker fugtbarrieren. Infunderet med glyceryl glukosid, aqua xylitol og squalen, tilbyder denne maske en forfriskende finish og beroliger sensitiv hud med madagaskar centella asiatica-ekstrakt. Velegnet til alle hudtyper og bestået hudirritationstests, er denne vandessens-teksturerede maske et must-have for ultimativ hudhydrering. Sådan bruges 1. Efter vask og toning af ansigtet, påfør arket sømløst på huden. 2. Fjern efter 10-20 minutter og tap for at hjælpe absorptionen af den resterende essens. Ingredienser Vand, butylenglykol, glycerin, niacinamid, 1,2-heksandiol, glyceryl glukosid, xylitylglukosid, anhydroxylitol, allantoin, carbomer, arginin, xylitol, centella asiatica-ekstrakt (1.000 ppm), polyglyceryl-10 laurat, ethylhexylglycerin, xanthangummi, adenosin, glukose, dinatrium EDTA, hydrogeneret lecithin, musa sapientum (banan) blomster-ekstrakt, rosa damascena blomstervand, pyrus communis (pære) frugtekstrakt, prunus domestica frugtekstrakt, squalan, cucumis melo (melon) frugtekstrakt, hedera helix (vedbend) blad/stængel-ekstrakt, natriumhyaluronat (3,5 ppm), ceramid NP, cetyl ethylhexanoat, kolesterol, macadamia ternifolia frøolie, brassica campestris (raps) steroler, oliesyre, stearinsyre, tocopherol, hyaluronsyre (0,1 ppm), hydrolyseret hyaluronsyre (0,1 ppm), hydrolyseret natriumhyaluronat (0,1 ppm), hydroxypropyltrimonium hyaluronat (0,1 ppm), kaliumhyaluronat (0,1 ppm), natriumhyaluronat crosspolymer (0,1 ppm), pentylenglykol, natriumacetylated hyaluronat (0,07 ppm)