SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Nawilżająca maska

1 arkusz lub pudełko (5 arkuszy) Doświadcz głębokiego nawilżenia, ocieplenia i blokowania wilgoci dzięki tej masce prześcieradłowej. Wzbogacony o 8 rodzajów kwasu hialuronowego, Centella i Ceramid tworzy ochronną warstwę nawilżającą na skórze, zapobiegając utracie wilgoci i wzmacniając barierę wilgoci. Napełniona gliceryloglukozydem, akwsylitolem i skwalenem, maska ta zapewnia odświeżające wykończenie i łagodzi wrażliwą skórę ekstraktem z Madagaskaru Centella Asiatica. Odpowiednia do wszystkich rodzajów skóry i przechodząca testy podrażnień skóry, ta maska o teksturze esencji wodnej jest niezbędna dla uzyskania najwyższego nawilżenia skóry. Jak korzystać 1. Po umyciu i ujędrnieniu twarzy nałóż prześcieradło płynnie na skórę. 2. Usuń po 10-20 minutach i dotknij, aby wspomóc wchłanianie pozostałej esencji. Składniki Woda, glikol butylenowy, gliceryna, niacynamid, 1,2-heksanodiol, glukozyd glicerylowy, ksylitylglukozyd, anhydroksylitol, alantoina, karbomer, arginina, ksylitol, ekstrakt Centella Asiatica (1000 ppm), laurynian poliglicerylo-10, etyloheksylgliceryna, guma ksantanowa, adenozyna, glukoza, disodowa EDTA, uwodorniony Cienka, ekstrakt z kwiatów Musa Sapientum (banan), woda kwiatowa Rosa Damascena, ekstrakt z owoców Pyrus Communis (gruszka), ekstrakt z owoców Prunus Domestica, skwalan, ekstrakt z owoców Cucumis Melo (melon), wyciąg z liść/łodygi Hedera Helix (bluszcz), hialuronian sodu (3,5 ppm), ceramid NP, etyloheksanian cetylu, cholesterol, olej z nasion macadamia ternifolia, sterole Brassica Campestris (rzepak), kwas oleinowy, kwas stearynowy, tokoferol, kwas hialuronowy (0,1 ppm), hydrolizowany kwas hialuronowy (0,1 ppm), hydrolizowany hialuronian sodu (0,1 ppm), hialuronian potasu (0,1 ppm), polimer krzyżowy hialuronianu sodu (0,1 ppm), glikol pentylenowy, acetylowany hialuronian sodu (0,07 ppm)